Particle-removing apparatus for a semiconductor device manufacturing apparatus and method for removing the particles
摘要
<p>가스에 전압을 인가하여 플라즈마를 생성하는 것에 의해 기판을 가공하는 반도체 디바이스 제조 장치에서, 양으로 대전된(charged) 파티클을 캐소드 전압을 정지하는 순간에 트랩 또는 유도하고, 음의 전압을 전극에 가하는 것으로, 파티클이 기판에 도달하는 것을 방지한다.</p>
