| 摘要 |
<p>본 발명의 집속 이온빔 장치는 이온 소스와, 상기 이온 소스로부터 추출되는 이온빔을 집속하고 편향시키는 빔 광학계를 구비하여, 상기 집속되고 편향된 이온빔을 샘플 스테이지 상에 배치된 가공 샘플 위로 조사하여 상기 샘플을 가공할 때에 상기 샘플 스테이지를 경사지도록 하여 상기 샘플의 단면을 선정된 각도로 가공한다. 본 장치는 상기 샘플 스테이지의 가공 각도에 대응하여 상기 빔 광학계의 이온빔 추출 전극의 전압을 설정하기 위한 수단, 및 상기 샘플 스테이지의 상기 가공 각도에 대응하여 상기 샘플 스테이지를 선정된 각도로 경사지게 함으로써 상기 샘플의 단면을 선정된 각도로 가공하도록 하는 수단을 포함한다.</p> |
