发明名称 MOLD FOR NON-PHOTOLITHOGRAPHIC FABRICATION OF MICROSTRUCTURES
摘要 <p>본 발명에 따라 미세 구조체를 제조하는데 이용되는 개선된 엘라스토머(elastomer)형 주형이 제공된다. 본 발명에 따른 주형은 제 1 표면 및 제 2 표면을 포함하는데, 제 1 표면은 적어도 하나의 리세스(recess)된 미세 채널을 구비하며, 제 2 표면은 주형을 통해 제 1 표면까지 연장되며 리세스되어 있는 미세 채널과 연결되는 액세스 개구(access opening) 내지 충진 부재를 구비한다. 주형은 리세스된 미세 채널이 기판을 향하도록 기판 상에 놓여져 사용된다. 주형의 액세스 개구는 고화 가능한 액상 재료로 충진된다. 액세스 개구는 미세 채널과 기판 사이에 규정된 공간 내에 액상 재료를 계속적으로 공급한다. 액상 재료가 고화된 후, 주형이 기판으로부터 제거되어 기판 상에 고화된 액상 재료로부터 형성된 미세 구조체를 남긴다.</p>
申请公布号 KR19990078180(A) 申请公布日期 1999.10.25
申请号 KR19990009959 申请日期 1999.03.24
申请人 null, null 发明人 바오제난;로저스존에이
分类号 H01L21/336;B29C33/00;B29C33/40;B29C33/42;B29C39/24;B29C39/26;H01L21/283;H01L21/288;H01L29/786;H05K3/10;H05K3/12 主分类号 H01L21/336
代理机构 代理人
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