| 发明名称 |
Mit Elektronenstrahlen härtbare, strahlungsempfindliche Zusammensetzung und ihre Verwendung zur Herstellung von feinen Bildmustern |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
DE3939186(C2) |
申请公布日期 |
1999.10.14 |
| 申请号 |
DE19893939186 |
申请日期 |
1989.11.27 |
| 申请人 |
TOKYO OHKA KOGYO CO. |
发明人 |
MIYABE, MASANORI;KOHARA, HIDEKATSU;NAKAYAMA, TOSHIMASA |
| 分类号 |
G03F7/038;C08F2/46;C08K5/3492;C08L61/06;C08L61/08;G03F7/004;H01L21/027;(IPC1-7):G03F7/038;G03F7/32;G03F7/38;H01L21/312;C08K5/349;C08L61/32 |
主分类号 |
G03F7/038 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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