具有监测功能之化学机械平坦化机台,申请号TW086117155-传众专利搜索

发明名称	具有监测功能之化学机械平坦化机台
摘要	一种具有监测功能之化学机械平坦化机台，系用以研磨一晶圆并能监测一抛光垫，其包含：一研磨装置，其系用以配合该抛光垫研磨该晶圆；一控制装置，系与该研磨装置电连接，其系用以控制该研磨装置配合该抛光垫研磨该晶圆；以及一侦测装置，系与该控制装置电连接，其系用以侦测该抛光垫之表面高度，致能发出一信号至该控制装置，进而使该控制装置停止该研磨装置配合该抛光垫研磨该晶圆而能更换该抛光垫。
申请公布号	TW371636	申请公布日期	1999.10.11
申请号	TW086117155	申请日期	1997.11.17
申请人	罗代尔股份有限公司	发明人	贺陈弘;刘国馨;陈来助;朱海怒
分类号	B24B7/20;B24B49/00;H01L21/304	主分类号	B24B7/20
代理机构		代理人	蔡清福
主权项	康
地址	新竹市光复路二段二九五号十八之五