| 发明名称 |
Use of a variable impedance to control RF coil heating, substrate heating, and film deposition uniformity in a plasma reactor |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP0878825(A3) |
申请公布日期 |
1999.09.29 |
| 申请号 |
EP19980303813 |
申请日期 |
1998.05.14 |
| 申请人 |
APPLIED MATERIALS, INC. |
发明人 |
VAN GOGH, JAMES;FORSTER, JOHN C. |
| 分类号 |
H05H1/46;C23C14/34;C23C14/54;H01F29/10;H01J37/32;H01L21/203;H01L21/302;(IPC1-7):H01J37/32 |
主分类号 |
H05H1/46 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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