| 发明名称 |
PLASMA TREATMENT METHOD AND MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICE |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
JPH11260797(A) |
申请公布日期 |
1999.09.24 |
| 申请号 |
JP19980364057 |
申请日期 |
1998.12.22 |
| 申请人 |
HITACHI LTD |
发明人 |
TSUJIMOTO KAZUNORI;TAJI SHINICHI;KANETOMO MASABUMI;KUMIHASHI KOSEI;KOBAYASHI JUNICHI;USUI TAKETO;MISE NOBUYUKI |
| 分类号 |
H01L21/302;H01L21/3065;(IPC1-7):H01L21/306 |
主分类号 |
H01L21/302 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
