| 摘要 |
Zum Beschichten von Substraten (17,18,20,21,22) in einer Vakuumbeschichtungskammer (2) werden die Substrate über eine Schleuse in die Beschichtungskammer (2) eingebracht und entlang eines Transportweges vor den eine Beschichtungswolke erzeugenden Beschichtungsquellen (50a,b,c,d) verfahren. Hierzu werden die Substrate (17,18,20,21,22) mittels an einem Transportband (9) verfahrbar angeordneter Haltevorrichtungen (24) nacheinander während mindestens zweier Beschichtungsphasen an den Beschichtungsquellen (50a,b,c,d) vorbeigeführt. Während der einen Beschichtungsphase werden die Substrate (17,18,20,21,22) entlang einer Transportrichtung T3 derartig zu den Beschichtungsquellen (50a,b,c,d) ausgerichtet, daß im wesentlichen der Substratboden des zylindrischen Substrates beschichtet wird. Während der anschließenden zweiten Beschichtungsphase werden die Substrate in einer zur Transportrichtung T3 entgegengesetzten Richtung T4 vor den Beschichtungsquellen (50a,b,c,d) entlang gefahren, wobei die Substrate (17,18,20,21,22) derartig ausgerichtet sind, daß im wesentlichen die Zylindermantelfläche beschichtet wird. Durch das Verfahren werden die Substrate (17,18,20,21,22) nacheinander in identischer Weise und unabhängig von während des Beschichtungsprozesses möglichen Substratpositionen in Bezug zu den Beschichtungsquellen (50a,b,c,d) beschichtet. Mit dem Verfahren werden flaschenförmige Behälter, insbesondere Kunststoffflaschen mit einer Gas- bzw. Flüssigkeitsbarriereschicht bedampft. Die Beschichtungsquellen (50a,b,c,d) bestehen aus thermischen Verdampfern und/oder Plasmakathodensputterquellen. <IMAGE>
|
