发明名称 | 清洗电子元件构件或类似零件的方法和装置 | ||
摘要 | 用清洗溶液来清洗电子元件构件或类似零件,如硅晶片等。清洗溶液是将氢气或臭氧溶进高纯水中制备成具有负的或正的氧化-还原电位。这种清洗溶液对于电子元件具有显著改善的洗净性能。此外,调节清洗溶液的pH值,可对电子元件进行更高效率的清洗。 | ||
申请公布号 | CN1228197A | 申请公布日期 | 1999.09.08 |
申请号 | CN97197334.2 | 申请日期 | 1997.08.19 |
申请人 | 奥加诺株式会社;佛朗帝克股份公司 | 发明人 | 今冈孝之;山下幸福 |
分类号 | H01L21/304;B08B3/08;B08B3/12 | 主分类号 | H01L21/304 |
代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人 | 邵伟 |
主权项 | 1.一种清洗电子元件构件或类似零件如电子元件构件或是用于制造这些元件的设备的部件的方法,包括通过将氢气溶解在高纯水中制成的且其氧化-还原电位为负值的清洗溶液对电子元件构件或类似零件进行清洗。 | ||
地址 | 日本东京 |