发明名称 辐射断层照相方法及装置
摘要 本发明提供一种辐射断层照相方法及装置,其可同时地造影切面厚度不同之复数断层照相影像,藉一具有大小及厚度之辐射束40所投射之标的物的投射影像系以藉由检测器阵列240及242之辐射束的厚度方向来画分,接着,诸断层照相影像系根据各所画分之投射影像之投射资料及所有所画分之投射影像之投射资料予以分别地制作。
申请公布号 TW368405 申请公布日期 1999.09.01
申请号 TW087114833 申请日期 1998.09.07
申请人 通用电机横川医药系统股份有限公司 发明人 堀内哲也
分类号 A61B8/13 主分类号 A61B8/13
代理机构 代理人 林志刚 台北巿南京东路二段一二五号七楼
主权项 1.一种辐射断层照相方法,包含下列步骤:藉一具有大小及在辐射束之厚度方向中画分为所画分之诸投射影像之厚度的辐射束所投射之标的物的投射影像,在复数之观看方向中量度它们个别之投射资料;以及根据各所画分之投射影像之投射资料及所有所画分之投射影像之投射资料分别地制作诸断层照相影像。2.一种辐射断层照相装置,包含:量度装置,其系在复数之观看方向中以藉一具有大小及在辐射束之厚度方向中画分为所画分之诸投射影像之厚度的辐射束所投射之标的物的投射影像,来量度它们个别之投射资料:以及断层照相制作装置,用于根据各所画分之投射影像之投射资料及所有所画分之投射影像之投射资料分别地制作诸断层照相影像。3.一种辐射断层照相装置,包含:量度装置,用以利用在辐射束之厚度方向中并排配置之复数辐射检测器,量度在复数之观看方向中藉一具有大小及厚度之辐射束所投射之标的物的投射影像;以及断层照相制作装置,用以根据在量度装置中藉各该复数之辐射检测器所获取之投射资料及藉所有该复数之辐射检测器所获取之投射资料分别地制作诸断层照相影像。图式简单说明:第一图系根据本发明一实施例之装置的方法图;第二图系一概略图,描绘根据本发明一实施例之装置中X射线检测器阵列之架构;第三图系一概略图,描绘根据本发明一实施例之装置中X射线发射/检测系统之架构;第四图系一概略图,描绘根据本发明一实施例之装置中X射线发射/检测系统之架构;第五图系一概略图,描绘根据本发明一实施例之装置中藉X射线束所投射之投射影像之典型画分;第六图系一流程图,描绘根据本发明一实施例之装置之操作;以及第七图系一概略图,描绘藉根据本发明一实施例之装置之多切面扫描的实例。
地址 日本