发明名称 |
SPUTTER FILM FORMING DEVICE AND SPUTTER FILM FORMING METHOD |
摘要 |
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申请公布号 |
JPH11229132(A) |
申请公布日期 |
1999.08.24 |
申请号 |
JP19980037478 |
申请日期 |
1998.02.19 |
申请人 |
TOSHIBA CORP |
发明人 |
KATADA TOMIO;HAYASAKA NOBUO;OKUMURA KATSUYA |
分类号 |
C23C14/00;C23C14/34;H01L21/203;H01L21/285;H01L21/31;H01L21/316;(IPC1-7):C23C14/34 |
主分类号 |
C23C14/00 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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