发明名称 聚碳酸酯之制法
摘要 本发明系为了利用固相聚合法制得高品质的高分子量聚碳酸酯,针对知需要较多步骤和较长时间的问题,具有1500~30000黏度平均分子量之聚碳酸酯寡聚物在含选自C6-20芳香族烃、醚类或酮类之膨润溶剂气体的氛围下,温度在100℃~寡聚物之熔点范内,压力10Torr~5kg/c㎡ G下加以固相聚合者,或具有1500~30000黏度平均分子量之聚碳酸酯寡聚物在选自C5-20环状烃、C4-18直链或支链饱和烃或C4-18低度不饱和烃之贫溶剂气体流动下,温度在100℃~寡聚物之熔点范_内,压力10Torr~5kg/c㎡ G不进行固相聚合者,加以解决。
申请公布号 TW367340 申请公布日期 1999.08.21
申请号 TW085101519 申请日期 1996.02.07
申请人 出光石油化学股份有限公司 发明人 久西律行;茂木广明;高桥正浩;高桥诚二;仓昭弘
分类号 C08G64/40 主分类号 C08G64/40
代理机构 代理人 何金涂 台北巿大安区敦化南路二段七十七号八楼
主权项 1.一种聚碳酸酯之制法,其特征为,将具有1500-30000黏度平均分子量之聚碳酸酯寡聚物在含选自C6-20芳香族烃、醚类或酮类之膨润溶剂气体的氛围下,温度在100℃-寡聚物之熔点范围内,压力10Torr-5kg/cm2G下加以固相聚合者。2.如申请专利范围第1项之制法,其中聚碳酸酯寡聚物的末端比率,系在苯基碳酸酯末端:羟基末端=1:4-4:1范围者。3.如申请专利范围第1或2项之制法,其中聚碳酸酯寡聚物系由二羟基化合物与碳醯氯,以界面聚合法所得或熔体酯交换法所得者。4.如申请专利范围第1或2项之制法,其中聚碳酸酯寡聚物系于利用界面聚合法所得苯基碳酸酯末端的寡聚物,添加二羟基化合物者。5.如申请专利范围第1项之制法,其中在固相聚合之前,将聚碳酸酯寡聚物碎片化者。6.如申请专利范围第5项之制法,其中碎片化后之聚碳酸酯寡聚物之粒径为10微米至10公分,而比表面积在0.10至30m2/g者。7.如申请专利范围第1项之制法,其中膨润溶剂是在气化时,可使聚碳酸酯寡聚物及其高阶聚合物在聚合条件下呈膨润状态之溶剂者。8.如申请专利范围第7项之制法,其中膨润溶剂是在聚合条件具有完全气化的沸点或50mmHg以上的蒸气压,且将黏度平均分子量22000,结晶度0.5%的粒状非晶质聚碳酸酯,于密闭系内,在135℃的温度条件下,溶解1.5-50重量%而得者。9.如申请专利范围第7或8项之制法,其中膨润溶剂具有溶解度参数4-20(cal/cm3)1/2者。10.如申请专利范围第1项之制法,其中含膨润溶剂气体之氛围,系含有对于聚碳酸酯寡聚物或其高阶聚合物而言为贫溶剂气体和/或惰性气体者。11.如申请专利范围第10项之制法,其中贫溶剂气体系选自C5-20环状烃,C4-18直链或支链饱和烃和C4-18低度不饱和烃之至少一种溶剂气体者。12.如申请专利范围第10项之制法,其中惰性气体系选自氦、氩、氮、二氧化碳及C1-3烃者。13.如申请专利范围第1或10项之制法,其中膨润溶剂气体或膨润溶剂与贫溶剂气体和/或惰性气体之混合气体供应量,系按照空塔基准,在反应器内之气体流动线速度为0.001-500cm/sec者。14.如申请专利范围第1项之制法,其中含膨润溶剂气体之氛围,系利用含膨润溶剂之溶剂供应至固相聚合反应器而气化,或将含膨润溶剂之溶剂预先气化再供应至固相聚合反应器而形成者。15.一种聚碳酸酯之制法,其特征为,令具有1500-30000黏度平均分子量之聚碳酸酯寡聚物在选自C5-20环状烃、C4-18直链或支链饱和烃或C4-18低度不饱和烃之贫溶剂气体流动下,温度在100℃-寡聚物之熔点范围内,压力10Torr-5kg/cm2G下进行固相聚合者。16.如申请专利范围第15项之制法,其中聚碳酸酯寡聚物的末端比率,系在苯基碳酸酯末端:羟基末端=1:4-4:1范围者。17.如申请专利范围第15或16项之制法,其中聚碳酸酯寡聚物系由二羟基化合物与碳醯氯,以界面聚合法所得或熔体酯交换法所得者。18.如申请专利范围第15或16项之制法,其中聚碳酸酯寡聚物系于利用界面聚合法所得苯基碳酸酯末端的寡聚物,添加二羟基化合物者。19.如申请专利范围第15项之制法,其中在固相聚合之前,将聚碳酸酯寡聚物碎片化者。20.如申请专利范围第19项之制法,其中碎片化后之聚碳酸酯寡聚物之粒径为10微米至10公分,而比表面积在0.10至30m2/g者。21.如申请专利范围第15项之制法,其中贫溶剂是在聚合条件下具有完全气化的沸点和50mmHg以上的蒸气压,且将黏度平均分子量22000,结晶度0.5%的粒状非晶质聚碳酸酯,于密闭系内,在135℃的温度条件下,溶化0.1重量%以下而得者。22.如申请专利范围第15项之制法,其中贫溶剂具有溶解度参数4-10(cal/cm3)1/2者。23.如申请专利范围第15项之制法,其中贫溶剂气体之供应量,按空塔基准,在反应器内之流动线速度为0.001-500cm/sec者。24.如申请专利范围第15项之制法,其中藉将贫溶剂供应至固相聚合反应器并气化,或预先气化再供应至固相聚合反应器,而使贫溶剂气体流动者。图式简单说明:第一图系关于本发明方法I所述膨润溶剂,表示其膨润效果一例之曲线图。
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