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发明名称 POSITIVE PHOTOSENSITIVE ANIONIC ELECTRODEPOSITION RESIST COMPOSITION AND PROCESS FOR PATTERN FORMATION USING SAID COMPOSITION
摘要
申请公布号 KR100211433(B1) 申请公布日期 1999.08.02
申请号 KR19940011790 申请日期 1994.05.28
申请人 KANSAI PAINT CO., LTD. 发明人 NARUSE, KEISUKE;TAKEDA, YUKARI;IWASAWA, NAOZUMI;KOGURE, HIDEO
分类号 C09D5/44;G03F7/023;G03F7/16;(IPC1-7):G03F7/004 主分类号 C09D5/44
代理机构 代理人
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