发明名称 |
MASK USED IN PATTERNING AND METHOD OF EXPOSURE USING THE SAME |
摘要 |
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申请公布号 |
KR100212011(B1) |
申请公布日期 |
1999.08.02 |
申请号 |
KR19950017292 |
申请日期 |
1995.06.24 |
申请人 |
HYUNDAI ELECTRONICS IND. CO., LTD |
发明人 |
LEE, DU-HEE |
分类号 |
H01L21/027;(IPC1-7):H01L21/027 |
主分类号 |
H01L21/027 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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