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发明名称 PLANATION METHOD BY CHEMICAL MECHANICAL POLISHING
摘要
申请公布号 KR100213213(B1) 申请公布日期 1999.08.02
申请号 KR19960039860 申请日期 1996.09.13
申请人 SAMSUNG ELECTRONICS CO, LTD. 发明人 KIM, CHANG-KYU;BAEK, MIN-SOO
分类号 H01L21/302;(IPC1-7):H01L21/302 主分类号 H01L21/302
代理机构 代理人
主权项
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