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发明名称 Exposure apparatus for printing a pattern from a mask on a substrate
摘要
申请公布号 GB2333606(A) 申请公布日期 1999.07.28
申请号 GB19980020114 申请日期 1996.04.12
申请人 * NIKON CORPORATION 发明人 YUTAKA * HAYASHI
分类号 G03F7/20;(IPC1-7):G03B27/52 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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