| 主权项 |
1.一种用于具有多个排列成阵列形式之像元之光学反射型显示装置之反射板,该反射板包括:位于其表面上而对应于各像元之不均匀区域,其中该不均匀区域系使用两个或多个基本不均匀点状图型形成。2.根据申请专利范围第1项之反射板,其中该两个或多个基本不均匀点状图型中至少一个包括多个不均匀点状图型,包括其旋转及颠倒图型,而该不均匀区域系藉着任意选自该两个或多个基本图型之任何图型形成。3.一种反射型液晶显示装置,其包括:一对透过液晶层而排列之绝缘基板;及多个光反射性像元电极,其于任何一片绝缘基板之液晶层侧面排列成阵列,使穿透另一片透光性绝缘基板之光于像元电极上反射并自彼射出,其中该像元电极具有不均匀表面,且其中各像元使用两个或多个基本不均匀点状图型。4.根据申请专利范围第3项之反射型液晶显示装置,其中该两个或多个基本不均匀点状图型中至少一个包括多个不均匀点状图型,包括其旋转及颠倒图型,而该个别像元电极系藉着任意选自该两种或多种基本图型之任何图型所形成。5.一种制造反射板之方法,该反射板系用于具有多个排列成阵列形式之像元之光学反射型显示装置,该方法包括:于预定基板上形成感光性树脂膜之步骤,随后透过具有预定图型区域之掩模使感光性树脂膜曝光,其中该掩模之个别像元包括两个或多个基本不均匀点状图型,而该方法另外包括于该感光性树脂膜曝光后,使该感光性树脂膜显示之步骤,藉着移动该掩模或基板而重复预定次数。6.根据申请专利范围第5项之制造反射板之方法,其中该两个或多个基本不均匀点状图型中之至少一个包括多个不均匀点状图型,包括一个基本不均匀点状图型之旋转图型及一个基本不均匀点状图型之颠倒图型,而该不均匀区域系藉着任意选自两个或多个基本图型之任何图型所形成。7.一种制造反射型液晶显示装置之方法,该装置包括一对经由液晶层排列之绝缘基板,及多个光反射性像元电极,其于任一绝缘基板之液晶层侧面上排列成阵列,使穿透另一片透光性绝缘基板之光于像元电极上反射并自彼放射,该方法包括以下步骤:于一片绝缘基板上形成感光性树脂膜,以覆盖位于该片绝缘基板上之切换元件之至少一部分;之后透过具有预定图型区域之掩模使该感光性树脂膜曝光,其中该掩模之个别像元包括两个或多个基本不均匀点状图型,该方法另外包括以下步骤:于感光性树脂膜曝光步骤之后使该感光性树脂膜显影,而藉着移动掩模或一片绝缘基板而重复预定次数。8.根据申请专利范围第7项之制造反射型液晶显示装置之方法,其中该两个或多个基本不均匀点状图型中至少一个包括多个不均匀点状图型,包括其旋转或颠倒图型,而该不均匀区域系藉着任意选自该两种或多种基本图型之任何图型形成。图式简单说明:第一图为显示欲用以制造本发明之一具体实例之反射及反射型液晶显示装置之掩模1a的上视平面图;第二图为显示掩模1a之不均匀点状图型的关系之图;第三图A至第三图E为显示本发明第一个具体实例中制造反射板13之方法之步骤的剖面图;第四图为说明一般反射板制造方法中之曝光步骤之透视图;第五图A及第五图B为说明使用掩模1a于不同位置上重复曝光步骤数次时,反射板13之反射特性变化之图:第六图为当入射光平行度高时,说明反射板13反射特性之图;第七图为显示本发明第二个具体实例之反射型液晶显示装置35之剖面图;第八图为显示用以形成基板39a之基板39及用以构成反射型液晶显示装置35之液晶面板11及12之上视平面图;第九图A及第九图B为显示用以于反射板表面上形成不均匀点之先前技艺掩模1b形状之上视平面图;第十图为显示步进装置之曝光灯18之曝光强度之値;第十一图为说明于不同位置重复曝光位置数次时之光学强度分布之图;第十二图A及第十二图B为说明因曝光强度所致之隆突21间形状差异之透视图;第十三图A及第十三图B系为说明因曝光强度导致之隆突21间反射特性差异之图;第十四图A及第十四图B为说明当使用先前技艺掩模1b于不同位置重复曝光步骤数次时,反射板71之反射特性变化之图;且第十五图为说明当入射光平行度高时,先前技艺反射板71反射特性之图。 |
