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发明名称 FORMATION OF ANTIREFLECTION LAYER TO IMPROVE PHOTORESIST RESOLUTION AND PROCESS WINDOW, DEEP-ULTRAVIOLET RAY PHOTOLITHOGRAPHIC LAYER STRUCTURE, AND DEEP-ULTRAVIOLET RAY PHOTORESIST IMAGING RESOLUTION
摘要
申请公布号 JPH11162846(A) 申请公布日期 1999.06.18
申请号 JP19980271806 申请日期 1998.09.25
申请人 SIEMENS AG 发明人 LU ZHIJIAN
分类号 G03F7/004;G03F7/039;G03F7/09;G03F7/16;H01L21/027;(IPC1-7):H01L21/027 主分类号 G03F7/004
代理机构 代理人
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