发明名称 |
ATMOSPHERIC PRESSURE CHEMICAL VAPOR DEPOSITION SYSTEM |
摘要 |
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申请公布号 |
KR200145299(Y1) |
申请公布日期 |
1999.06.15 |
申请号 |
KR19950024568U |
申请日期 |
1995.09.13 |
申请人 |
HYUNDAI MICRO ELECTRONICS CO.,LTD. |
发明人 |
HO, SEUNG-EN |
分类号 |
H01L21/205;(IPC1-7):H01L21/205 |
主分类号 |
H01L21/205 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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