| 主权项 |
1.一种光阻剂之显像方法,属于石印术的光阻剂之 显像方 法,其特征为:包括将施以光阻剂之涂布及照射的 显像对 象物,系浸在储存于容器之显像液,同时,将依上述 显像 液之液压施加于上述显像对象物之过程。2.如申 请专利范围第1项所述之光阻剂之显像方法,其中 ,上述显示对象物系张贴金属箔,且对应于电路图 型而照 射上述光阻剂所成的可挠性薄膜者。3.如申请专 利范围第2项所述之光阻剂之显像方法,其中 ,上述液压系储存于上述容器之上述显像液经循环 而被加 入者。4.如申请专利范围第1项至第3项中任何一项 所述之光阻剂 之显像方法,其中,上述液压系随着上述显像液之 浓度被 调整者。5.如申请专利范围第4项所述之光阻剂之 显像方法,其中 ,上述液压系随着上述显像液之浓度降低而上昇者 。6.一种显像装置,属于实行石印刷之光阻剂之显 像的显像 装置,其特征为具有:储存显像液之容器,及将经光 阻剂 之涂布与照射之显像对象物,引导至上述容器内能 浸在上 述显像液之导件,及在仍浸在上述显像液之上述显 像对象 物,施加依上述显像液之液压的泵甫。7.如申请专 利范围第6项所述之显像装置,其中,上述显 像对象物系张贴有金属箔,且对应于电路图型而上 述光阻 剂被照射所成之可挠性薄膜,具有实行上述可挠性 薄膜之 导出的导出卷轴,及实行上述可挠性薄膜之卷取的 卷取卷 轴者。8.如申请专利范围第6项或第7项所述之显像 装置,其中, 具有调整上述显像液之液压的阀者。图式简单说 明:第一 图系表示本发明之实施形态之显像装置的图式。 第二图系 表示本发明之其他实施形态之显像装置的图式。 第三图系 表示以往之显像装置的图式。 |
