| 主权项 |
1.一种酸性清洁组合物,其具有pH値为0.1至4.5且适 于去 除坚硬表面上之石灰垢沈积物,其包含酸总组合物 重量之 0.01%至30%之表面活性剂或其混合物,及包含总组合 物重 量之0.1%至45%之顺丁烯二酸,其特征在于该组合物 进一 步包含总组合物重量之0.1%至20%之具有第一pKa値不 超过 5的酸,柠檬酸除外,或其混合物,顺丁烯二酸对该酸 之 重量比为8:1至4:1致使表面安全性得以改进。2.根 据申请专利范围第1项之酸性清洁组合物,其中该 表 面活性剂系选自包括非离子系、阴离子系、阳离 子系、两 性离子系、两性系表面活性剂或其混合物。3.根 据申请专利范围第1项之酸性清洁组合物,其包含 总 组合物重量之1%至25%之顺丁烯二酸。4.根据申请专 利范围第1项之酸性清洁组合物,其包含总 组合物重量之8%至20%之顺丁烯二酸。5.根据申请专 利范围第1项之酸性清洁组合物,其包含总 组合物重量之0.1%至10%之具有第一pKa値不超过5之 酸或 其混合物。6.根据申请专利范围第1项之酸性清洁 组合物,其包含总 组合物重量之0.1%至5%之具有第一pKa値不超过5之酸 或其 混合物。7.根据申请专利范围第1项之酸性清洁组 合物,其中该酸 之第一pKa値不超过4。8.根据申请专利范围第1项之 酸性清洁组合物,其中该酸 之第一pKa値不超过3。9.根据申请专利范围第1项之 酸性清洁组合物,其中该酸 之第一pKa値系低于2。10.根据申请专利范围第1项 之酸性清洁组合物,其中具有 第一pKa値不超过5之该酸,系选自胺基磺酸、氢氯 酸、硝 酸、甲酸、甲磺酸及磷酸。11.根据申请专利范围 第1项之酸性清洁组合物,其中具有 第一pKa値不超过5之该酸为胺基磺酸,且其中该组 合物包 含总组合物重量之0.5%至5%之该胺基磺酸。12.根据 申请专利范围第1项之酸性清洁组合物,其中该表 面活性剂为非离子系表面活性剂并为环氧乙烷与 醇类之缩 合反应产物,该醇类具有含6至22个碳原子之直烷链 ,该 缩合反应产物之乙氧基化度为1至15或其混合物。 13.根据申请专利范围第11项之酸性清洁组合物,其 中该 表面活性剂为非离子系表面活性剂并为环氧乙烷 与醇类之 缩合反应产物,该醇类具有含6至22个碳原子之直烷 链, 该缩合反应产物之乙氧基化度为1至15或其混合物 。14.根据申请专利范围第1项之酸性清洁组合物, 其中该表 面活性剂为根据式R1R2R3R4N+X-之阳离子系表面活性 剂, 其中X为抗衡阴离子,R1为C8-C20烃链,且R2.R3及R4系 独立选自H或C1-C4烃链。15.根据申请专利范围第11 项之酸性清洁组合物,其中该 表面活性剂为根据式R1R2R3R4N+X-之阳离子系表面活 性剂 ,其中X为抗衡阴离子,R1为C8-C20烃链,且R2.R3及R4 系独立选自H或C1-C4烃链。16.根据申请专利范围第1 项之酸性清洁组合物,其中该表 面活性剂为非离子表面活性剂与根据式R1R2R3R4N+X- 之阳 离子系表面活性剂之混合物,其中X为抗衡阴离子,R 1为 C8-C20烃链,且R2.R3及R4系独立选自H或C1-C4烃链。17. 根据申请专利范围第11项之酸性清洁组合物,其中 该 表面活性剂为非离子表面活性剂与根据式R1R2R3R4N+ X-之 阳离子系表面活性剂之混合物,其中X为抗衡阴离 子,R1 为C8-C20烃链,且R2.R3及R4系独立选自H或C1-C4烃链。18 .根据申请专利范围第1项之酸性清洁组合物,其中 pH値 为0.1至3。19.根据申请专利范围第1项之酸性清洁 组合物,其中pH値 为0.5至2。20.一种处理坚硬表面且较宜为金属表面 之方法,其中系 将根据申请专利范围第1项之酸性清洁组合物以自 容器取 出之纯质形式分配于或以经稀释之形式使用于该 表面上, 然后放置使其在该表面上作用,并随后冲洗去除, 藉以改 进表面安全性。21.一种处理坚硬表面且较宜为金 属表面之方法,其中系 将根据申请专利范围第11项之酸性清洁组合物以 自容器取 出之纯质形式分配于或以经稀释之形式使用于该 表面上, 然后放置使其在该表面上作用,并随后冲洗去除, 藉以改 进表面安全性。图式简单说明:第一图之曲线显示 当顺丁 烯二酸及胺基磺酸之存在比例约相等时,可改进表 面的安 全性。 |
