| 发明名称 |
Methods and apparatus for detecting pattern dependent charging on a workpiece in a plasma processing system |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP0874395(A3) |
申请公布日期 |
1999.05.26 |
| 申请号 |
EP19980303115 |
申请日期 |
1998.04.22 |
| 申请人 |
LAM RESEARCH CORPORATION |
发明人 |
PATRICK, ROGER;JONES, PHILLIP |
| 分类号 |
H01L23/544;(IPC1-7):H01L21/66 |
主分类号 |
H01L23/544 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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