发明名称 半导体陶瓷和使用该半导体陶瓷的半导体陶瓷元件
摘要 公开了一种半导体陶瓷,其常数B在升高温度下保持在约4000K或更高以减少电能损耗,常数B在低温下降至低于4000K以避免电阻不必要的增加;以及使用该半导体陶瓷的半导体陶瓷元件。所述半导体陶瓷由氧化钴镧作为主组分,至少一种La、Na、K、Rb、Cs、Be、Mg、Ca、Sr、Ba、Ni、Cu和Zn的氧化物作为次要组分形成。所述半导体陶瓷元件是用该半导体陶瓷和形成于其上的电极来制造。
申请公布号 CN1215709A 申请公布日期 1999.05.05
申请号 CN98121544.0 申请日期 1998.10.21
申请人 株式会社村田制作所 发明人 川瀬洋一;中山晃庆;上野哲;石川辉伸;新见秀明
分类号 C04B35/32;H01C7/04 主分类号 C04B35/32
代理机构 上海专利商标事务所 代理人 白益华
主权项 1.一种半导体陶瓷,包括(a)氧化钴镧作为主组分和(b)至少一种选自Li、Na、K、Rb、Cs、Be、Mg、Ca、Sr、Ba、Ni、Cu和Zn的元素的氧化物。
地址 日本京都府
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