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发明名称 Hard etch mask
摘要 <p>A hard etch mask comprising phosphorus doped silicate glass for reactive ion etching of a substrate to form trenches therein. &lt;IMAGE&gt; &lt;IMAGE&gt;</p>
申请公布号 EP0908937(A2) 申请公布日期 1999.04.14
申请号 EP19980117016 申请日期 1998.09.09
申请人 INFINEON TECHNOLOGIES AG 发明人 LEE, GILL YONG
分类号 H01L21/302;H01L21/033;H01L21/3065;H01L21/308;H01L21/316;H01L21/8242;H01L27/108;(IPC1-7):H01L21/308;H01L21/32 主分类号 H01L21/302
代理机构 代理人
主权项
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