发明名称 | 利用巨磁阻效应的磁传感器 | ||
摘要 | 在一支承衬底的主表面上形成一缓冲层。该缓冲层主要由从CoFe、钴和铜中选取的一种物质构成的缓冲层。在所述缓冲层之上形成一个多层GMR层,后者具有一种叠层结构,这种结构是通过磁性层和非磁性层的交互层叠而获得的。所述非磁性层由铜构成,所述磁性层和非磁性层的厚度使得可以表现出巨磁阻效应。所述缓冲层的厚度与构成所述多层GMR层的每一层的厚度不相同。 | ||
申请公布号 | CN1213865A | 申请公布日期 | 1999.04.14 |
申请号 | CN98107979.2 | 申请日期 | 1998.05.08 |
申请人 | 富士通株式会社 | 发明人 | 濑山喜彦;饭岛诚 |
分类号 | H01L43/00;G11B5/39 | 主分类号 | H01L43/00 |
代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 王以平 |
主权项 | 1、一种磁传感器,包括:一个具有一主表面的支承衬底;一个在所述支承衬底的主表面上、主要由从CoFe、钴和铜中选取的一种物质构成的缓冲层;和一个在所述缓冲层之上、通过磁性层和非磁性层的交互层叠而获得的多层GMR层,所述非磁性层主要由铜构成,所述磁性层和非磁性层的厚度使得可以表现出巨磁阻效应;其中,所述缓冲层的厚度与构成所述多层GMR层的每一层的厚度不相同。 | ||
地址 | 日本神奈川 |