| 摘要 |
Un aparato para controlar la pulverizacion de particulas de recubrimiento de carga positiva hacia un material dielectrico de carga negativao puesto atierra que tiene una constante dielectrica inferior a 4,0 yen forma de un recipiente hueco.E ste aparato incluye: (a) un dispositivo para inducir unacarga positiva en una composicion de recubrimiento, (b) un dispositivo para crear un campo de particulas de recubrimiento de carga positiva, (c) undispositivo para soportar una serie dereci pientes huecos en relacion espaciada entre si, que incluye una serie de husillos orientados verticalmente,(d) un dispositivo para transportar los husillos en serie a traves del campo de particulas de recubrimiento de carga positiva,(e) un plato de agarre hecho apartir de, o recubierto con, un material dielectrico, o ambos, montado en el extremo superior de un husillo, definiendose en el plato un rebaje pararecibir el agujero de un recipiente hueco, y (f) un dispositivo depuesta a tierra colocado de tal manera que, cuando el recipiente dielectrico este en elrecorrido de las particulas de recubrimiento de cargas positiva pulverizadas, el dispositivo de puesta a tierra este tambien en el recorrido, pero protegidodeellas p or el material dielectrico. |
