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发明名称 METHOD AND DEVICE FOR PLASMA PROCESSING AND MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要
申请公布号 JPH1197426(A) 申请公布日期 1999.04.09
申请号 JP19970259168 申请日期 1997.09.25
申请人 发明人
分类号 C23C16/50;C23C16/44;C23F4/00;H01J37/32;H01L21/205;H01L21/302;H01L21/3065;H01L21/31;(IPC1-7):H01L21/306 主分类号 C23C16/50
代理机构 代理人
主权项
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