| 摘要 |
<p>L'invention concerne une structure comprenant une couche frittée céramique contenant du silicium, ainsi qu'une couche métallique contenant un métal actif en tant que couche de matière de brasage ou couche de métallisation assemblée ou déposée sur la surface de la couche frittée. Dans l'interface située entre la couche frittée et la couche métallique, on a formé une couche de réaction d'un composé comprenant des éléments constituant la couche frittée céramique et le métal actif. La couche de réaction est présente au-delà du pourtour extérieur de la couche métallique, et elle comprend notamment, lorsque la couche frittée céramique est une couche frittée de nitrure de silicium dont le métal actif est du titane, une première couche de réaction composée principalement de nitrure de titane et une seconde couche de réaction composée principalement de siliciure de titane. La première couche de réaction est présente au-delà du pourtour extérieur de la seconde couche de réaction. En fonction de la structure de brasage et de la structure métallisée, il est possible d'accroître les caractéristiques de la couche métallique contenant le métal actif, comme la résistance de l'assemblage, et de conserver une bonne reproductibilité.</p> |
