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发明名称 ELECTRON-BEAM PROJECTION EXPOSURE SYSTEM
摘要
申请公布号 JPH1187227(A) 申请公布日期 1999.03.30
申请号 JP19970249016 申请日期 1997.09.12
申请人 NIKON CORP 发明人 OSHINO TETSUYA
分类号 G03F7/20;H01J37/09;H01J37/30;H01J37/305;H01L21/027;(IPC1-7):H01L21/027 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
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