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发明名称
METHOD FOR MANUFACTURING NEGA PATTERN FOR SHADOW MASK
摘要
申请公布号
KR0181759(B1)
申请公布日期
1999.03.20
申请号
KR19960002944
申请日期
1996.02.07
申请人
LG MICRON CO., LTD.
发明人
PARK, KI-WON
分类号
H01J29/07;(IPC1-7):H01J29/07
主分类号
H01J29/07
代理机构
代理人
主权项
地址
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