首页 产品 黄页 商标 征信
会员服务 注册 登录 
全部
 |
企业名
 |
法人/股东/高管
 |
品牌/产品
 |
地址
 |
经营范围
发明名称 Verfahren zur Belichtung einer Modellplatine mit Ausrichtmuster
摘要
申请公布号 DE69227160(T2) 申请公布日期 1999.03.11
申请号 DE19926027160T 申请日期 1992.07.15
申请人 DAI NIPPON PRINTING CO., LTD., TOKIO/TOKYO, JP 发明人 SHINODA, TOSHIKI, C/O DAI NIPPON PRINT CO., LTD., TOKYO 162, JP;TAKEZAWA, TETSUO, C/O DAI NIPPON PRINT CO., LTD., TOKYO 162, JP;NOGUCHI, SHIGERU, C/O DAI NIPPON PRINT CO., LTD., TOKYO 162, JP
分类号 G03F7/20;G03F9/00;H01J37/304;(IPC1-7):G03B41/00 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
©  2024 传众  czvv.com