发明名称 用于大面积辅助镀膜的无栅离子源
摘要 本实用新型涉及等离子体技术中的一种镀膜、装置,它主要包含有放电室、阳极、阴极发射体、阴极磁极靴、磁屏、阳极磁极靴。本实用新型利用电磁线圈及极片构成异形磁场,改变临界磁力线的形状,增加高速电子区的体积,减小其表面积从而提高放电效率;可以施加屏极电压,主动控制等离子体电位,从而主动控制参与辅助镀膜的等离子体离子能量;可以进行含氧的反应辅助镀膜。
申请公布号 CN2310077Y 申请公布日期 1999.03.10
申请号 CN97228290.4 申请日期 1997.10.17
申请人 中国科学院空间科学与应用研究中心 发明人 尤大伟;李晓谦;王宇
分类号 C23C14/48 主分类号 C23C14/48
代理机构 中科专利代理有限责任公司 代理人 刘文意
主权项 1.一种用于大面积辅助镀膜的无栅离子源,其特征在于它包括有:放电室、阴极、水冷阳极、阴极发射体、阴极座、阴极加热体、阳极磁极靴、磁屏、阴极磁极靴、阴极加热电极,均压盘、阴极氧化铝绝缘子、阳极氧化铝绝缘子和底板所组成,其中放电室、水冷阳极、磁极靴均呈圆筒状,阳极与磁屏间由螺丝固定,阴极为杯状,它与阴极座嵌接,筒状阴极加热体中间切缝与阴极加热导柱采用螺钉压紧,阴极电源通过阴极加热电极、阴极加热导柱对阴极加热体加热,当阴极被加热到特定温度以上即发射电子,筒状阳极在加热电源作用下,在阴极附近建立起发射鞘层,阳极磁极靴、磁屏、阴极磁极靴及放电室内的环形磁场构成磁回路。
地址 100080北京市海淀区中关村南二街1号8701信箱