| 发明名称 |
POLYMER, RESIST RESIN COMPOSITION AND FORMATION OF PATTERN USING THE SAME |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH1160734(A) |
申请公布日期 |
1999.03.05 |
| 申请号 |
JP19970219541 |
申请日期 |
1997.08.14 |
| 申请人 |
SHOWA DENKO KK |
发明人 |
NANBA YOICHI;TAKAHASHI HIROSHI |
| 分类号 |
G03F7/004;C08G77/26;C08L83/06;G03F7/039;G03F7/075;H01L21/027;(IPC1-7):C08G77/26 |
主分类号 |
G03F7/004 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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