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发明名称 Herstellverfahren für eine aus Silizid bestehende Anschlußfläche für ein Siliziumgebiet
摘要
申请公布号 DE4339919(C2) 申请公布日期 1999.03.04
申请号 DE19934339919 申请日期 1993.11.23
申请人 SIEMENS AG, 80333 MUENCHEN, DE 发明人 RUDERER, ERWIN, DIPL.-PHYS., 85570 MARKT SCHWABEN, DE
分类号 H01L21/285;(IPC1-7):H01L21/283;H01L21/265;H01L21/336;H01L21/768;H01L27/108 主分类号 H01L21/285
代理机构 代理人
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