| 发明名称 | 氧化物陶瓷薄膜的制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种氧化物陶瓷薄膜的制造方法,它是将金属氧化物沉积在一表面上。操作过程中加入增速剂以引发有机金属化合物前体的氧化。 | ||
| 申请公布号 | CN1205557A | 申请公布日期 | 1999.01.20 |
| 申请号 | CN98116006.9 | 申请日期 | 1998.07.13 |
| 申请人 | 西门子公司 | 发明人 | F·欣特梅尔 |
| 分类号 | H01L39/12;H01L39/24 | 主分类号 | H01L39/12 |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 魏金玺;钟守期 |
| 主权项 | 1．制造氧化物陶瓷薄膜的方法，是通过在一表面上沉积金属氧化物而完成的，该方法包含下列步骤：-将有机金属的前体蒸发以生成前体气体，-加入一种增速剂以引发前体的氧化过程，-将前体氧化以生成金属氧化物以及-将金属氧化物沉积在表面上。 | ||
| 地址 | 联邦德国慕尼黑 | ||