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经营范围
发明名称
ION IMPLANTATION APPARATUS FOR UNIFORMLY INJECTING AN ION BEAM INTO A SUBSTRATE
摘要
申请公布号
KR0164841(B1)
申请公布日期
1999.01.15
申请号
KR19890016924
申请日期
1989.11.21
申请人
SUMITOMO EATON NOVA CORPORATION
发明人
TAMAI, TADAMOTO;MURAKAMI, JUNICHI
分类号
H01J37/20;C23C14/48;C23C14/50;H01J37/317;H01L21/265;(IPC1-7):C23C14/48
主分类号
H01J37/20
代理机构
代理人
主权项
地址
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