发明名称 Anisotropes fluorbasiertes Plasmaätzverfahren für Silizium
摘要
申请公布号 DE19706682(C2) 申请公布日期 1999.01.14
申请号 DE19971006682 申请日期 1997.02.20
申请人 ROBERT BOSCH GMBH, 70469 STUTTGART, DE 发明人 LAERMER, FRANZ, DR., 70437 STUTTGART, DE;SCHILP, ANDREA, 73525 SCHWAEBISCH GMUEND, DE
分类号 H01L21/302;H01L21/3065;(IPC1-7):C23F4/00;C23C14/06;C23C16/30;H01L21/306 主分类号 H01L21/302
代理机构 代理人
主权项
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