发明名称 DISPOSITIF A SEMICONDUCTEURS AVEC UNE STRUCTURE D'ISOLATION ET PROCEDE DE FABRICATION
摘要 <P>Dans la fabrication d'un dispositif à semiconducteurs comportant une structure d'isolation entre éléments par blindage par effet de champ, on forme une pellicule de nitrure supérieure (15) sur la surface supérieure d'une électrode de blindage par effet de champ (5). La surface supérieure de l'électrode de blindage par effet de champ (5) n'est donc pas mise à nu, même lorsqu'une pellicule d'oxyde supérieure (41) est partiellement enlevée au cours du processus de fabrication. On peut ainsi obtenir un dispositif à semiconducteurs qui ne présente pas une dégradation des caractéristiques de fonctionnement et de la fiabilité, du fait de l'existence d'une couche diélectrique de blindage par effet de champ.</P>
申请公布号 FR2765396(A1) 申请公布日期 1998.12.31
申请号 FR19980000606 申请日期 1998.01.21
申请人 MITSUBISHI DENKI KABUSHIKI KAISHA 发明人 MAEDA SHIGENOBU;IWAMATSU TOSHIAKI;MAEGAWA SHIGETO;IPPOSHI TAKASHI;YAMAGUCHI YASUO;HIRANO YUUICHI
分类号 H01L21/76;H01L21/765;H01L29/786 主分类号 H01L21/76
代理机构 代理人
主权项
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