发明名称 热记录用影像转印材料及其制法
摘要 一种热记录用影像转印材料,此材料具有高精致列印品质,适合用来作为多重列印的操作,其中的材料含有一基底膜,在基底膜的一个表面上有一层颜料层。其中的基底膜是由芳香族聚醯胺所构成的,并且在温度20℃,相对湿度60% 的条件下所量测到纵向杨氏模数(EMD)为至少6.86GPa。基底膜相当的平坦.此外在经过200℃,10分钟热处理之后,在无施加应力的状况下,仍可保持非常平坦。
申请公布号 TW348117 申请公布日期 1998.12.21
申请号 TW086105097 申请日期 1997.04.19
申请人 东丽股份有限公司 发明人 末冈雅则;筑木稔博
分类号 B41M5/08 主分类号 B41M5/08
代理机构 代理人 何金涂 台北巿大安区敦化南路二段七十七号八楼
主权项 1.一种热记录用影像转印材料,其包括一基底膜以及在基底膜的一个表面上之一层颜料层,其中的基底膜包含芳香族聚醯胺,并且在温度20℃,相对湿度60%及大致平坦的条件下所量测到的纵向杨氏模数(EMD)至少6.86GPa,此外在经过200℃,10分钟热处理之后,在无施加应力的状况下,仍可保持非常平坦。2.如申请专利范围第1项之影像转印材料,其中该基底膜具有尺寸稳定性,使得经过200℃,10分钟热处理之后,在无施加应力的状况下,基底膜的尺寸变化率小于2%。3.如申请专利范围第1或第2项之影像转印材料,其中基底膜内分子量小于1000的寡聚物含量不多于0.5wt%。4.如申请专利范围第1项之影像转印材料,其满足下列的公式:Mw/Mn≦4.5其中Mw是基底膜之芳香族聚醯胺的重量平均分子量,Mn为其数量平均分子量。5.如申请专利范围第1项之影像转印材料,其满足下列的公式:EMD≧ETD1.1ETD≧6.86GPa其中ETD是在温度20℃,相对湿度60%条件下量测到的基底膜横向杨氏模数。6.如申请专利范围第1项之影像转印材料,其中转印材料的宽度为100mm以上,颜料层是染料昇华型颜料。7.一种热记录用影像转印材料之制法,该制法包含以下的步骤,其操作顺序如下:(1)于第一铸型溶剂中形成芳香族聚醯胺溶液,(2)由模具出口将溶液挤出,并在支撑台上形成一层膜,(3)选择性地施加乾式及/或湿式热处理,(4)选择性地由平台将膜移走,(5)以第二萃取溶剂处理基底膜,将基底膜残留的第一铸型溶剂或盐类萃取出来,(6)将基底膜热定型,(7)在基底膜表面制作一层颜料层;其特征在于(a)步骤(2)中,在模具出口附近及出口上游处任选同一横截面上的两点,其温度差控制在不大于10℃及/或厚度的不规则性控制在10%以下,(b)在步骤(3)和(6)中,控制温度及/或水蒸气含量使得横截面上的任两点的温度差及/或水蒸气含量差不大于5%,(c)步骤(5)中,第二萃取溶剂是以一相对于基底膜之移动条件下与基底膜互相接触,(d)在步骤(5)之后,步骤(6)之前,移走基底膜中的第二萃取溶剂。
地址 日本
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