| 摘要 |
<p>Es wird ein Verfahren zur Messung von durch Riffel oder lange Wellen gebildete Unebenheiten in der Oberfläche von Objekten, insbesondere in der Fahrfläche (111) von Schienen (11) von einer Meßplattform (13) aus angegeben, das berührungslos mißt, robust gegenüber der Relativbewegung von Meßplattform (13) und Objekt ist und unabhängig von der Geschwindigkeit der Relativbewegung gleich gute Meßergebnisse liefert. Hierzu wird von der Meßplattform (13) aus ein in Bewegungsrichtung sich erstreckender Lichtstrich (19) unter einem zur Oberflächennormalen festen Projektionswinkel auf die Oberfläche projiziert. Der Lichtstrich (19) wird mit einer Vielzahl von aufeinanderfolgenden Momentaufnahmen auf einem an der Meßplattform (13) mit einem gegenüber dem Projektionswinkel gekippten Aufnahmewinkel fest angeordneten, flächenhaft positionsempfindlichen Fotoempfänger (18) so abgebildet, daß die Vielzahl der Lichtstrichabbildungen die Oberfläche längs der Bewegungsrichtung zumindest lückenlos erfaßt. Aus den Deformationen in der Vielzahl der Lichtstrichabbildungen wird das Oberflächenprofil längs der Bewegungsrichtung bestimmt.</p> |
