METHOD OF FORMING FINE PATTERN OF SEMICONDUTOR DEVICE,申请号KR19940034500-传众专利搜索

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发明名称	METHOD OF FORMING FINE PATTERN OF SEMICONDUTOR DEVICE
摘要
申请公布号	KR0151014(B1)	申请公布日期	1998.12.01
申请号	KR19940034500	申请日期	1994.12.15
申请人	SAMSUNG ELECTRONICS CO.,LTD	发明人	JUNG, DONG-JIN
分类号	H01L21/30;(IPC1-7):H01L21/30	主分类号	H01L21/30
代理机构		代理人
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