| 发明名称 |
In-situ capped aluminium plug (cap) process using selective cvd al for integrated plug/interconnect metallization |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
SG54612(A1) |
申请公布日期 |
1998.11.16 |
| 申请号 |
SG19970004694 |
申请日期 |
1997.12.26 |
| 申请人 |
APPLIED MATERIALS, INC. |
发明人 |
GUO TED;CHEN LIANG-YUH;SUBRAHMANYAN SUCHITRA |
| 分类号 |
H01L21/285;H01L21/28;H01L21/3205;H01L21/768;H01L23/52;(IPC1-7):H01L21/768;C23C28/00 |
主分类号 |
H01L21/285 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
