| 主权项 |
1.一种用于处理基板(9)之装置,其具一盛有处理流体之容器(1)及至少一可上下运动之基板固持件(8),其特征为,在基板(9)与容器壁面(4,5)间设有与基板(9)平行之,可与基板上下运动之基板侧壁(6,7)。2.根据申请专利范围第1项所述之装置,其特征为,基板侧壁(6,7)与基板固持件(8)相连接,并可与之上下运动。3.根据申请专利范围第1或2项所述之装置,其特征为,在由基板侧壁(6,7)构成之基板区域外设有一基板固持件手臂(10)。4.根据申请专利范围第3项所述之装置,其特征为,基板固持件手臂(10)被设置在容器壁面(5)内设计之手臂坑(11)内。5.根据申请专利范围第4项所述之装置,其特征为,在手臂坑(11)之底部设有输入喷嘴、输入孔及/或输入扩散器。6.根据申请专利范围第5项所述之装置,其特征为,本装置使用于依马拉哥尼方法之脱乾过程。7.根据申请专利范围第6项所述之装置,其特征为,在手臂坑(11)内设有一管,在处理流体上被导进之气体可经此管排出。8.根据申请专利范围第7项所述之装置,其特征为,使用的气体包括异丙醇,氮气或是由之组成之混合气体。图式简单说明:第一图显示本发明装置之示意俯视图,第二图显示在第一图所示装置沿切线I-I之截面图。 |
