发明名称 |
减少残余物的硬表面除垢剂和方法 |
摘要 |
本发明提供了一种显著改进残余物的去除并大大减少成膜/成斑纹的含水的硬表面除垢剂,所述除垢剂包括:$(a)一种有效量的选自C<SUB>1—6</SUB>链烷醇、C<SUB>3—24</SUB>亚烷基二醇醚及其混合物的溶剂;$(b)一种有效量的选自两性的、非离子的和阴离子的表面活性剂及其混合物的表面活性剂;$(c)一种有效量的缓冲体系,该体系包括一种选自由下列组成的组的含氮的缓冲剂:$氨基甲酸铵或碱土金属盐、胍的衍生物、烷氧基烷基胺和亚烷基胺;和$(d)基本上都是水的剩余成分。 |
申请公布号 |
CN1040455C |
申请公布日期 |
1998.10.28 |
申请号 |
CN93102683.0 |
申请日期 |
1993.02.06 |
申请人 |
克罗洛斯公司 |
发明人 |
小·A·加拉贝迪恩;S·C·米尔斯;W·P·西伯特 |
分类号 |
C11D3/43;C11D3/33 |
主分类号 |
C11D3/43 |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
杨厚昌 |
主权项 |
1.一种显著地改进去除残余物和大大减少成膜/成斑纹的含水的硬表面除垢剂,所述除垢剂包括:(a)1-15%的溶剂,选自C1-5链烷醇、C3-24亚烷基二醇醚及其混合物;(b)一种有效量的表面活性剂,选自两性的、非离子的和阴离子的表面活性剂及其混合物;(c)0.01-2%的缓冲体系,该体系包括一种含氮缓冲剂,选自:氨基甲酸铵、氨基甲酸碱土金属盐、二氨基胍、碳酸胍、烷氧基烷基胺和亚烷基胺;(d)主要是水的剩余成分。 |
地址 |
美国特拉华州 |