发明名称 薄膜电晶体元件阵列
摘要 薄膜电晶体元件以矩阵形式配置在一基底上,此薄膜电晶体元件包括一源极电极、一汲极电极、一半导体层与闸绝缘薄膜的隔离层、以及一闸极电极。在基底上形成有汲极导线和闸极导线,其分别与汲极电极和源极电极连接。在每一汲极导线与闸极导线交叉处另有一半导体层与闸绝缘层所构成的隔离层。每一汲极导线具有一隔离导电薄膜,其由与构成闸极导线相同材料所制成,此导电薄膜与每一汲极导线连接以导通每一汲极导线。像素电极形成在基底上,像素电极与相邻闸电极导线有重叠部份,而有一半导体与闸绝缘薄膜所形成的隔离层的辅助电容即在此重叠部份形成。由于包含一半导体层的隔离层是岛状形式,因此漏电流不会在薄膜电晶体元件阵列中的薄膜电晶体元件之间流过。
申请公布号 TW343324 申请公布日期 1998.10.21
申请号 TW086107189 申请日期 1997.05.27
申请人 电气股份有限公司 发明人 加藤卓哉
分类号 G02F1/133;G09F9/30 主分类号 G02F1/133
代理机构 代理人 洪澄文 台北巿信义路四段二七九号三楼
主权项 1.一种薄膜电晶体元件阵列,包括:复数个薄膜电晶 体元 件,以包含复数行与别的阵列方式形成于一基底上 ,每一 个薄膜电晶体元件包括:一源电极,一汲极电极,一 由第 一半导体层与第一闸绝缘层所成之第一叠层,及一 形成在 该第一叠层上之闸电极,该第一叠层系为岛状形式 ;复数 个汲极导线,位于该基底上,每一汲极导线均延伸 以连接 到配置在相关列(column)上每一薄膜电晶体元件的 汲极电 极上;复数个闸极导线,位于该基底上,每一汲极导 线均 延伸以连接到配置在相关行(row)上每一薄膜电晶 体元件 的闸电极上;复数个分别以岛状形式排列之侧壁间 隔物, 每一侧壁间隔物位于相对应之闸极导线与汲极导 线的交叉 处,用以使每一闸极导线与每一汲极导线绝缘,而 每一侧 壁间隔物包含一由第二半导体层与第二闸绝缘层 所成之第 二叠层;以及复数个相隔离之导电薄膜,由与该闸 极导线 相同之材料所制得,每一隔离之导电薄膜系形成来 与相关 之汲极导线连接。2.一种薄膜电晶体元件阵列,包 括:复数个薄膜电晶体元 件,以包含复数行与列的阵列方式形成于一基底上 ,每一 个薄膜电晶体元件包括:一源电极,一汲极电极,一 由第 一半导体层与第一闸绝缘层所成之第一叠层,及一 形成在 该第一叠层上之闸电极,该第一叠层系为岛状形式 ;复数 个汲极导线,位于该基底上,每一汲极导线均延伸 以连接 到配置在相关列(column)上年一薄膜电晶体元件的 汲极电 极上;复数个闸极导线,位于该基底上,每一汲极导 线均 延伸以连接到配置在相关行(row)上每一薄膜电晶 体元件 的闸电极上;复数个分别以岛状形式排列之侧壁间 隔物, 每一侧壁间隔物位于相对应之闸极导线与汲极导 线的交叉 处,用以使每一闸极导线与每一汲极导线绝缘,而 每一侧 壁间隔物包含一由第二半导体层与第二闸绝缘层 所成之第 二叠层;复数个像素电极,位于该基底上且电性连 接至该 源极电极,每一像素电极与相邻之闸极导线有一重 叠部份 ,以及复数个辅助电容,各自形成在该重叠部份上, 每一 辅助电容均包含一第三半导体层与第三闸绝缘层 薄膜所构 成的第三叠层,该第三叠层系为岛状形式。3.如申 请专利范围第2项所述之薄膜电晶体元件阵列,更 包括复数个相隔离之导电薄膜,由与该闸极导线相 同之材 料所制得,每一隔离之导电薄膜系形成来与相关之 汲极导 线连接。4.如申请专利范围第1项所述之薄膜电晶 体元件阵列,其 中该基底系一种用于液晶显示装置之基底,该闸极 导线和 该汲极导线分别地与该液晶显示装置之垂直驱动 器与水平 驱动器相连接。5.如申请专利范围第1项所述之薄 膜电晶体元件阵列,其 中该基底为可透光的。6.如申请专利范围第1项所 述之薄膜电晶体元件阵列,更 包括一n+半导体薄膜,该n+半导体薄膜系位于该第 一半导 体层下边的部份表面上。7.如申请专利范围第2项 所述之薄膜电晶体元件阵列,更 包括一n+半导体薄膜,该n+半导体薄膜系如同三明 治般的 位于该第一半导体层与每一像素电极之间。8.如 申请专利范围第1项所述之薄膜电晶体元件阵列, 更 包括一n+半导体薄膜,该n+半导体薄膜系位于该第 一半导 体层下边的全部表面上。9.如申请专利范围第1项 所述之薄膜电晶体元件阵列,其 中该第一半导体包括一非晶矽薄膜,且在该第一半 导体层 下边的部分表面上具有一个由磷所扩散的区域。 10.如申请专利范围第2项所述之薄膜电晶体元件阵 列,其 中该像素电极是用透光的导电物质所制成。11.如 申请专利范围第2项所述之薄膜电晶体元件阵列, 其 中该像素电极是以氧化铟锡制成。12.如申请专利 范围第1项所述之薄膜电晶体元件阵列,其 中该汲极导线是以透光的导电物质所制成。13.如 申请专利范围第1项所述之薄膜电晶体元件阵列, 其 中该汲极导线是以氧化铟锡制成。图式简单说明: 第一图 A是第一个习知例子的平面图;第一图B是第一图A中 沿A-A 线所作之剖面图;第一图C是第一图A中沿C-C线所作 之剖 面图;第二图A是第二习知例子的平面图;第二图B是 第二 图A中沿A-A线所作之剖面图;第二图C是第二图A中沿 C-C 线所作之剖面图;第三图A是第三个习知例子的平 面图; 第三图B是第三图A中沿A-A线所作之剖面图;第三图C 是第 三图A中沿C-C线所作之剖面图;第四图A是依据本发 明第 一实施例之平面图;第四图B是第四图A中沿A-A线所 作之 剖面图;第四图C是第四图A中沿C-C线所作之剖面图; 第 五图A、第五图D及第五图G系平面图,描述本发明第 一实 施例的制造方法;第五图B、第五图E及第五图H分别 是第 第五图A、第五图D及第五图G中沿A-A线所作之剖面 图;第 五图C、第五图F及第五图I分别是第五图A、第五图 D及第 五图G中沿B-B线所作之剖面图;第六图A是依据本发 明第 二实施例之平面图;第六图B是第六图A中沿A-A线所 作之 剖面图;第六图C是第六图A中沿B-B线所作之剖面图; 第 七图A、第七图D及第七图G系平面图,描述本发明第 二实 施例的制造方法;第七图B、第七图E及第七图H分别 是第 七图A、第七图D及第七图G中沿A-A线所作之剖面图; 第七 图C、第七图F及第七图I分别是第七图A、第七图D 及第七 图G中沿B-B线所作之剖面图;第八图是一示意图,用 来显 示一液晶显示器的显像部份,以及驱动此显像部份 的驱动 ;以及第九图是一液晶显示器中薄膜电晶体元件的 电路图 。
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