发明名称 电磁式离合器
摘要 本发明揭示了一电磁式离合器。此电磁式离合器包含了具有一激励线圈构件在其中之场构件;延伸经过该场构件及该激励线圈构件之一轴;一固定地安装于轴上与场构件相对之位置上的转子;一可转动地安装于轴上之驱动机制;一安装于驱动机制面对转子构件之一侧上的接触构件;一安装于驱动机制上之弹性构件用以偏离接触构件朝向驱动机制。接触构件系位在使得接触构件表面与转子构件之间沿着轴形成一第一度量G1之间隙的位置上并且该第一度量G1系设定成小于一限制度量G3。弹性构件之变形藉由沿着轴方向上之限制度量而造成了弹性限度。此电磁式离合器具有一限制构件安装于驱动机制上用以限制接触构件沿着轴方向上之位移小于一第二度量G2。此第二度量G2系设定在介于该第一度量G1及该限制度量G3之间的范围内。
申请公布号 TW343259 申请公布日期 1998.10.21
申请号 TW086108756 申请日期 1997.06.23
申请人 三田工业股份有限公司 发明人 久保勉
分类号 B41J13/00;F16D27/12 主分类号 B41J13/00
代理机构 代理人 何金涂 台北巿大安区敦化南路二段七十七号八楼
主权项 1.一种电磁式离合器,包含:一场构件,具有一位在 其中 之激励线圈构件;一轴,延伸经过该场构件及该激 励线圈 构件;一转子构件,固定地置放于轴上与场构件相 对之位 置上;一驱动机制,可旋转地安装于轴上;一接触构 件, 安装于驱动机置面对转子构件的一侧上;一弹性构 件,位 于驱动机制上用以偏离接触构件朝向驱动机置;及 接触构 件系处在使得接触构件之表面与转子构件之间延 着轴形成 一第一度量G1之间隙的位置上并且第一度量G1系设 定成小 于一限制度量G3,弹性构件延着轴向之变形藉此限 制度量 而造成弹性限度;及一限制构件,安装于驱动机制 上用以 限制接触构件延着轴向之位移小于一第二度量,并 且此第 二度量系设定在介于第一度量G1及限制度量G3之范 围内。2.根据申请专利范围第1项之电磁式离合器, 其中该驱动 机制包含一轴承罩壳,而一轴承系安装于此轴承罩 壳内以 支撑轴上之驱动机制;该接触构件系向外地置放在 轴承罩 壳四周,而该限制构件包含了一将被安装于该轴承 罩壳之 外表的管状部,一位在管状构件之一端且将与接触 构件之 侧表面啮合之一第一凸缘构件,及位在管状构件之 另一端 之一第二凸缘构件用以将限制构件附着于驱动机 制上。3.根据申请专利范围第2项之电磁式离合器, 其中在转子 构件面对接触构件之一侧上形成凹口用以将限制 构件之第 一凸缘构件包含在其中。图式简单说明:第一图系 根据本 发明之电磁式离合器之一具体实施例的截面图第 二图系一 分解透视图,显示适用于电磁式离合器之一驱动力 传输器 之接触构件之罩壳部内所放置的构成组件;及第三 图系先 前技艺之一电磁式离合器之截面图。
地址 日本