首页 产品 黄页 商标 征信
会员服务 注册 登录 
全部
 |
企业名
 |
法人/股东/高管
 |
品牌/产品
 |
地址
 |
经营范围
发明名称 Chemisch-mechanische Planarisierung von flachen Rillen auf Halbleitersubstraten
摘要
申请公布号 DE69412945(D1) 申请公布日期 1998.10.08
申请号 DE19946012945 申请日期 1994.07.27
申请人 DIGITAL EQUIPMENT CORP., MAYNARD, MASS., US 发明人 NASR, ANDRE ILYAS, MARLBOROUGH, MASSACHUSETTS 01875, US;COOPERMAN, STEVEN SCOTT, SOUTHBOROUGH, MASSACHUSETTS 01772, US
分类号 H01L21/3105;H01L21/762;(IPC1-7):H01L21/306;H01L21/310 主分类号 H01L21/3105
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
©  2024 传众  czvv.com