웨이퍼 세척 장치

摘要

본 고안은 웨이퍼 세척 장치에 관한 것으로, 웨이퍼 표면의 케미컬을 제거하기 위한 탈이온수 배스내에 웨이퍼를 회전시킬 수 있는 회전 수단이 구비하고, 이러한 회전 수단에 의해 상기 배스내에 장입된 웨이퍼를 회전시키면서, 상기 웨이퍼 표면에 탈이온수를 분사시킴으로써, 웨이퍼 표면의 케미컬 제거 효율을 증대시킬 수 있다.