| 主权项 |
1.一种用以支持一滑动件于一磁性储存系统中之多件式一体的悬吊组合体,包含:一硬的负载组件;一可挠件,包括一可挠性组件和一体式形成于其上的导电引线,该滑动件系装设在其一端的可挠性组件上,与引线电性连接;和位于可挠性组件和负载组件之间的支轴装置,以支轴该可挠性组件的平衡动作,其中该可挠性组件包括一第一区域和一第二区域,该第二区域系紧固地连接于负载组件上,而该第一区域则自由地轴接于支轴装置,以利平衡动作,而且该可挠件更包括限制装置,用以限制可挠性组件的第一区域的平衡动作。2.根据申请专利范围第1项之多件式悬吊组合体,其中:该负载组件通常是平面的,该第一和第二区域具有跨越负载组件的第一和第二区域的第一及第二表面,该可挠性组件通常是平面的,包括第一和第二区域,该区域设有跨越该可挠性区域的第一和第二区域之第一和第二表面,该引线系一体式地形成于第一和第二区域上,该滑动件系装设在可挠性组件的第一区域之第一表面上,该可挠性组件的第二区域系紧固地连接至该负载组件的第二区域上,使其可挠性组件的第二表面朝向负载组件的第一表面:和该支轴装置系设置在负载组件的第一区域的第一表面以及可挠性组件的第一区域的第二表面之间,藉此,该可挠性组件的第一区域可依该支轴装置而轴接,以平衡其上所装设的滑动件。3.根据申请专利范围第2项之多件式悬吊组合体,其中该支轴装置系为负载组件的第一区域处的第一表面上之突出物,它可轴接式地支持该可挠性组件的第一区域,该可挠性组件的第一区域之第二表面乃压住该突出物。4.根据申请专利范围第2项之多件式悬吊组合体,其中引线系形成于可挠性组件的第一和第二区域的第一表面上。5.根据申请专利范围第4项之多件式悬吊组合体,其中该可挠件尚包括一介于引线和可挠性组件之间以介电材料制成的一体式中间层。6.根据申请专利范围第5项之多件式悬吊组合体,其中引线一端终止于滑动件上,该引线之端部被弯曲,以具有与滑动件接触的一平面侧。7.根据申请专利范围第4项之多件式悬吊组合体,其中该引线系利用一光石刻制程而一体地形成于可挠性组件上。8.根据申请专利范围第4项之多件式悬吊组合体,其中该引线包括一延伸在可挠性组件的第一区域之边缘上方的区域。9.根据申请专利范围第4项之多件式悬吊组合体,其中该引线系终止于滑动件上与可挠性组件的第二区域较远之端上。10.根据申请专利范围第9项之多件式悬吊组合体,其中该引线系建构以围绕滑动件的横侧,并沿该可挠性组件的第一和第二区域。11.根据申请专利范围第3项之多件式悬吊组合体,尚包含一连接在负载组件的第二区域之第一表面上的连接板,其中引线的部分系一体形成于该连接板上。12.根据申请专利范围第3项之多件式悬吊组合体,其中该负载组件具有一由负载组件的第一区域之末端延伸的舌部。13.根据申请专利范围第3项之多件式悬吊组合体,其中该负载组件具有边缘,沿其第一和第二区域上之边缘被弯曲以增加对负载组件的结构硬度。14.根据申请专利范围第4项之多件式悬吊组合体,其中在可挠性组件的第一区域内设有一孔隙其位置在引线于滑动件上之端点的下方,以助于使一体式形成于可挠性组件上之引线弯曲。15.根据申请专利范围第1项之多件式悬吊组合体,其中该限制装置包括一设置在负载组件上之孔隙和一由可挠性组件的第一区域延伸并经过该孔隙的一体式锥根部,该锥根部系与孔隙的边缘相互作用,以限制可挠性组件的第一区域之平衡动作。16.根据申请专利范围第15项之多件式悬吊组合体,其中该一体的锥根部形成一U形的夹持部,以经孔隙而夹持于负载主轴上。17.一种磁性储存系统,包含:一具有多个用以接收资料之轨道的磁性储存媒介;用以移动储存媒介之驱动装置;一包括有一读取感测器和一写入转换器的滑动件,该滑动件在滑动件与该储存媒介间做相对动作期间被维持与该磁性储存媒介相关的紧密分隔之位置上;一与该滑动件耦合的致动装置,用以使滑动件相对该磁性储存媒介而移动至该磁性储存媒介的选定轨道上,该致动装置包括一支持此滑动件的一体式悬吊组合体,该一体式悬吊组合体包含:(a)一硬的负载组件:(b)一可挠件,包括一可挠性组件和一体式形成于其上的导电引线,该滑动件系装设在其一端的可挠性组件上,与引线电性连接;和(c)位于可挠性组件和负载主轴之间的支轴装置,其中该可挠性组件包括一第一区域和一第二区域,该第二区域系紧固地连接于负载组件上,而该第一区域则自由地轴接于支轴装置,以利平衡动作,而且该可挠件更包括限制装置,用以限制可挠性组件的第一区域的平衡动作;和控制装置,用以控制驱动装置,致动装置和与磁性储存媒介相关的资料之读写等操作。18.根据申请专利范围第17项之磁性储存系统,其中在该一体式悬吊系统中:该负载组件通常是平面的,该负载组件包括有第一和第二区域,它们有跨越负载组件的第一和第二区域的第一及第二表面,该可挠性组件通常是平面的,包括第一和第二区域,该区域设有跨越该可挠性区域的第一和第二区域之第一和第二表面,该引线系一体式地形成于第一和第二区域上,该滑动件系装设在可挠性组件的第一区域之第一表面上,该可挠性组件的第二区域系紧固地连接至该负载组件的第二区域上,使其可挠性组件的第二表面朝向负载组件的第一表面;和该支轴装置系设置在负载组件的第一区域的第一表面以及可挠性组件的第一区域的第二表面之间,藉此,该可挠性组件的第一区域可依该支轴装置而轴接,以平衡其上所装设的滑动件。19.根据申请专利范围第18项之磁性储存系统,其中该支轴装置系为负载组件的第一区域处的第一表面上之突出物,它可轴接式地支持该可挠性组件的第一区域,该可挠性组件的第一区域之第二表面乃压住该突出物。20.根据申请专利范围第18项之磁性储存系统,其中引线系形成于可挠性组件的第一和第二区域的第一表面上。21.根据申请专利范围第17项之磁性储存系统,其中该限制装置包括一设置在负载组件上之孔隙和一由可挠性组件的第一区域延伸并经过该孔隙的一体式锥根部,该锥根部系与孔隙的边缘相互作用,以限制可挠性组件的第一区域之平衡动作。22.根据申请专利范围第21项之磁性储存系统,其中该一体的锥根部形成一U形的夹持部,以经孔隙而夹持于负载主轴上。23.一种用以制作用以支持一滑动件的一体式悬吊组合体之方法,包含下列步骤:形成一硬的负载组件;形成一一体式的可挠件,包括有一可挠性组件和其上之导电引线,该滑动件之一端系装设于该可挠性组件上,以利可挠性组件的平衡动作,该可挠性组件包括一第一区域和一第二区域;在可挠性组件和负载组件之间形成一支轴装置,以支轴该可挠性组件的平衡动作;和使该可挠性组件第二区域连接至该负载主轴上,而该第一区域则自由地依该支轴装置而轴接,以做平衡动作;其中该可挠件更包括限制装置,用以限制可挠性组件的第一区域的平衡动作。24.根据申请专利范围第23项之方法,其中:该负载组件通常是平面的,该负载组件包括有第一和第二区域,它们有跨越负载组件的第一和第二区域的第一及第二表面,该可挠性组件通常是平面的,该第一和第二区域设有跨越该可挠性区域的第一和第二区域之第一和第二表面,该引线系一体式地形成于第一和第二区域上,该滑动件系装设在可挠性组件的第一区域之第一表面上,使该可挠性组件与该负载组件连接的步骤包括紧固地使可挠性组件的第二区域与负载组件的第二区域连接,使该可挠性组件的第二表面朝向负载组件的第一表面;和该支轴装置系设置在可挠性组件的第一区域的第二表面与负载组件的第一区域之第一表面之间,藉此,该可挠性组件的第一区域可依该支轴装置而轴接,以使其上连接的滑动件平衡。25.根据申请专利范围第24项之方法,其中该支轴装置系为负载组件的第一区域处的第一表面上之突出物,它可轴接式地支持该可挠性组件的第一区域,该可挠性组件的第一区域之第二表面乃压住该突出物。26.根据申请专利范围第24项之方法,其中引线系形成于可挠性组件的第一和第二区域的第一表面上。27.根据申请专利范围第26项之方法,其中该可挠件尚包括一介于引线和可挠性组件之间以介电材料制成的一体式中间层。28.根据申请专利范围第26项之方法,其中该引线系利用一光石刻制程而一体地形成于可挠性组件上。29.根据申请专利范围第23项之方法,其中该限制装置包括一设置在负载组件上之孔隙和一由可挠性组件的第一区域延伸并经过该孔隙的一体式锥根部,该锥根部系与孔隙的边缘相互作用,以限制可挠性组件的第一区域之平衡动作。30.根据申请专利范围第29项之方法,其中该一体的锥根部形成一U形的夹持部,以经孔隙而夹持于负载主轴上。图式简单说明:第一图系显示一习知的一体式悬吊组合体的滑动区之外观图;第二图系显示沿第一图之线2-2视之的剖面图;第三图系显示沿第一图之线3-3视之的剖面图;第四图所示为一磁碟储存系统的图示/方块图,其中系实施本发明的一体式悬吊体;第五图所示为根据本发明的一实施例之一体式悬吊组合体的外观图;第六图所示为第五图之一体式悬吊组合体的外观分解图;第七图所示为第五图之一体式悬吊组合体的滑动区之外观图;第八图(a)-第八图(d)所示为第五图之一体式悬吊组合体的可挠件之不同层顺序及负载臂的上视图;第九图所示为沿第七图之线9-9视之一剖面图;第十图所示为沿第七图之线10-10视之一剖面图;第十一图所示为沿第七图之线11-11视之一剖面图;第十二图所示为沿第七图之线12-12视之一剖面图;第十三图所示为沿第七图之线13-13视之一剖面图;第十四图所示为根据本发明之另一实施例的一体式悬吊组合体的滑动区之底部外观图;第十五图所示为第十四图之滑动区的顶部外观图;第十六图(a)和第十六图(b)所示为第十五图之滑动区上的负载主轴及可挠件之上视图;第十七图所示为由第十六图(b)之线17-17视之的剖面图;第十八图所示为由第十六图(b)之线18-18视之的剖面图;第十九图所示为由第十四图之线19-19视之的剖面图。 |
