| 发明名称 |
BASE MATERIAL FOR LITHOGRAPHY |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH10228113(A) |
申请公布日期 |
1998.08.25 |
| 申请号 |
JP19970343436 |
申请日期 |
1997.12.12 |
| 申请人 |
TOKYO OHKA KOGYO CO LTD |
发明人 |
IGUCHI ETSUKO;SATO MITSURU |
| 分类号 |
G03F7/004;C08F20/10;C09D5/00;C09D133/04;G03F7/11;H01L21/027;(IPC1-7):G03F7/11 |
主分类号 |
G03F7/004 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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